设备清洁步骤是什么-宣传片优选天源文化提供全流程服务- 助力企业品牌增长

宁德时代取得清洁设备等多项专利,彻底解决电解液等污染物对密封钉...宁德时代新能源科技股份有限公司取得一项名为“清洁设备、电池单体、用电装置及电池单体加工方法”，公开号CN115475986B,专利申请日期为2021年11月。专利摘要显示，本发明公开了一种清洁设备及电池单体、用电装置及电池单体加工方法，本发明在电池单体注入电解液步骤后以后面会介绍。

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中国华能清洁能源研究院申请一种火电厂设备分级方法专利,有助于...金融界2024年8月25日消息，天眼查知识产权信息显示，中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司申请一项名为“一种火电厂设备分级方法“公开号CN202410461798.3,申请日期为2024年4月。专利摘要显示，本发明提供一种火电厂设备分级方法，包括如下步骤：构建设备重要度评价体系等会说。

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微导纳米申请提高晶硅电池表面氧化层钝化效果工艺专利,所得表面...在碱抛或RCA 清洗步骤的烘干过程中，将硅片干燥后通入氧化性气体，在硅片表面生长干氧氧化层。本发明不增加额外设备，可增加制程过程中硅片对非工艺环境的耐受性，增加产品线节奏稳定性，增加湿法工序结束后的工艺等待Q‑Time 时间或减少工艺等待Q‑time 时间内非工艺环境对后面会介绍。

...一体化砌砖封堵材料制备方法及其设备专利,解决混合原料均匀混合问题本发明涉及建筑设备技术领域，尤其涉及一种绿色节能一体化砌砖封堵材料的制备方法及其设备，制备方法包括以下步骤，将选定好的各原料通过准备罐体进行清洗、烘干、破碎和筛分，将筛分后的混合原料通过搅拌罐体进行混合以及搅拌；对混合原料在混合过程中产生的粉尘进行除尘处理还有呢？

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江苏省苏力环境科技联合清华大学申请基于滑动窗口的污染物时序数据...该方法包括以下步骤：S1.获取企业污染物排口的排放量数据和用电设备的用电数据，进行数据清洗后得到各个污染物排放量以及产污治污总费率，并组成数据集；S2.利用基于滑动窗口的无监督学习方式对数据集进行异常检测，进而得到数据异常情况；S3.利用机器学习模型对数据集进行异常还有呢？

江苏先导微电子申请 1510nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学...一种1510nm ‑ 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺包括步骤：S1,将基底的表面清洁；S2,为磁控溅射设备的工艺腔选择一对中频Nb2O5 靶、一对中频Si 靶、以及RF 离子源；S3,将基地固定于旋转台的下表面上，将工艺腔抽真空；S4,采用RF 离子源对基底清洗；S5,磁控溅射设备抓还有呢？

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中微公司申请半导体零部件的清洗方法专利,能够去除通孔内的污染物,...金融界2024年6月28日消息，天眼查知识产权信息显示，中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“半导体零部件的清洗方法“公开号C说完了。所述清洗方法包括步骤：提供化学流体抛光液，所述化学流体抛光液中包含化学腐蚀剂和抛光磨料；使化学流体抛光液穿过所述通孔并从第二表面说完了。

李志钢:引领“间接环境消毒”浪潮,绿色CIP清洁系统领军人凭借其研发的“柔性低排放绿色CIP清洁系统”正引领着食品消毒领域的革新潮流。通过多项创新的专利技术，不仅提升了食品安全和生产设备好了吧！是指不拆卸设备或原件，在密闭的条件下，用一定浓度和温度的清洗液，对清洗装置加以强力作用，使与食品接触的表面洗净和杀菌的方法。尤其是好了吧！

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无锡邑文微电子科技申请一种热铝填孔的方法及半导体加工设备专利,...无锡邑文微电子科技股份有限公司申请一项名为“一种热铝填孔的方法及半导体加工设备“公开号CN202411117447.7,申请日期为2024 年8 月。专利摘要显示，本发明提供了一种热铝填孔的方法及半导体加工设备，所述方法包括以下步骤：(1)对含有待填孔的基底进行脱气和预清洁处理说完了。

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