设备清洁的主要步骤
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宁德时代取得清洁设备等多项专利,彻底解决电解液等污染物对密封钉...宁德时代新能源科技股份有限公司取得一项名为“清洁设备、电池单体、用电装置及电池单体加工方法”，公开号CN115475986B,专利申请日期为2021年11月。专利摘要显示，本发明公开了一种清洁设备及电池单体、用电装置及电池单体加工方法，本发明在电池单体注入电解液步骤后以后面会介绍。
中国华能清洁能源研究院申请一种火电厂设备分级方法专利,有助于...金融界2024年8月25日消息，天眼查知识产权信息显示，中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司申请一项名为“一种火电厂设备分级方法“公开号CN202410461798.3,申请日期为2024年4月。专利摘要显示，本发明提供一种火电厂设备分级方法，包括如下步骤：构建设备重要度评价体系小发猫。
...系统的清洗液及清洗方法专利,有效延长设备使用寿命、降低使用成本该清洗方法包括以下步骤：S1向胶原蛋白添加系统中加入所述清洗液；S2开启转液泵，使所述清洗液在胶原蛋白添加系统中循环流动；S3使用蠕动好了吧！ 最低清洗频次为每季度1次即可、有效延长设备使用寿命、降低使用成本、不产生难降解物质、易于后续排放废水的处理的目的。本文源自金好了吧！
...一体化砌砖封堵材料制备方法及其设备专利,解决混合原料均匀混合问题本发明涉及建筑设备技术领域，尤其涉及一种绿色节能一体化砌砖封堵材料的制备方法及其设备，制备方法包括以下步骤，将选定好的各原料通过准备罐体进行清洗、烘干、破碎和筛分，将筛分后的混合原料通过搅拌罐体进行混合以及搅拌；对混合原料在混合过程中产生的粉尘进行除尘处理说完了。
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微导纳米申请提高晶硅电池表面氧化层钝化效果工艺专利,所得表面...在碱抛或RCA 清洗步骤的烘干过程中，将硅片干燥后通入氧化性气体，在硅片表面生长干氧氧化层。本发明不增加额外设备，可增加制程过程中硅片对非工艺环境的耐受性，增加产品线节奏稳定性，增加湿法工序结束后的工艺等待Q‑Time 时间或减少工艺等待Q‑time 时间内非工艺环境对说完了。
思特奇取得自动清洗数据专利,提高数据清洗效率电子设备及存储介质“授权公告号CN111597179B,申请日期为2020年5月。专利摘要显示，本申请提供了一种自动清洗数据的方法、装置、电子设备及存储介质。该自动清洗数据的方法，包括以下步骤；获取目标用户的画像数据，并从所述画像数据中提取出所述目标用户的标签集合，所述标后面会介绍。
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江苏省苏力环境科技联合清华大学申请基于滑动窗口的污染物时序数据...该方法包括以下步骤：S1.获取企业污染物排口的排放量数据和用电设备的用电数据，进行数据清洗后得到各个污染物排放量以及产污治污总费率，并组成数据集；S2.利用基于滑动窗口的无监督学习方式对数据集进行异常检测，进而得到数据异常情况；S3.利用机器学习模型对数据集进行异常等会说。
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江苏先导微电子申请 1510nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学...一种1510nm ‑ 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺包括步骤：S1,将基底的表面清洁；S2,为磁控溅射设备的工艺腔选择一对中频Nb2O5 靶、一对中频Si 靶、以及RF 离子源；S3,将基地固定于旋转台的下表面上，将工艺腔抽真空；S4,采用RF 离子源对基底清洗；S5,磁控溅射设备抓还有呢？
中微公司申请半导体零部件的清洗方法专利,能够去除通孔内的污染物,...金融界2024年6月28日消息，天眼查知识产权信息显示，中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“半导体零部件的清洗方法“公开号C是什么。 所述清洗方法包括步骤：提供化学流体抛光液，所述化学流体抛光液中包含化学腐蚀剂和抛光磨料；使化学流体抛光液穿过所述通孔并从第二表面是什么。
盛美上海申请化学气相沉积炉管的清洗工艺及具有清洗功能的炉管专利...股份有限公司及盛帷半导体设备(上海)有限公司申请一项名为“化学气相沉积炉管的清洗工艺及具有清洗功能的炉管”专利，公开号CN202211586915.6,申请日期为2022年12月。专利摘要显示，本发明提供化学气相沉积炉管的清洗工艺及具有清洗功能的炉管，包括如下步骤：封闭内部具有后面会介绍。
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